- Anwendungen
UV-C/Ozon Reinigungsanlage für lösungsmittelhaltige Abluft
Reinigung von organisch und lösungsmittelbelasteter Industrieabluft durch UV-C-/Ozon PhotooxidationsanlagenEIGENSCHAFTEN
- Reinigungssystem speziell für stark riechende, organisch belastete Abluft aus lösungsmittelhaltigen Prozessen (Lackierarbeiten, Druck, Beschichtung)
- Vernichtet effektiv organische und geruchstragende Partikel
- Unempfindlich gegen Lastschwankungen
- Unempfindlich gegen hohe Luftfeuchtigkeit
- Automatische CIP-Reinigung der UV-C-/Ozon-Röhren
ANWENDUNGSGEBIETE
- Trocknerabluft aus verschiedensten organischen Prozessen
- Abluft aus chemischen Prozessen, aus Beschichtungsprozessen, Lackierlinien
- Abluft von Laserrauch
- VOC-haltige Abluft
- Styrolhaltige Abluft
IHRE VORTEILE AUF EINEN BLICK
- Einhaltung behördlicher Anforderungen (TA-Luft, Gesamt C, Geruchsauflagen)
- Geringerer baulicher Aufwand bei weit höherer Effizienz gegenüber thermischen Verbrennungsverfahren etc.
- Deutlich reduzierte Wartungs- und Betriebskosten
- On-/Off-System - kein Vorheizen wie bei einer TNV notwendig
- Geringer Platzbedarf, Dachinstallation möglich
- Einfache Installation, problemlos nachrüstbar
- Keine Verwendung von Chemikalien, keine Abwasserbelastung
- Alle Rückstände zu 100% biologisch abbaubar
FUNKTIONSWEISEBeim UV-C-/Ozon-Luftreinigungsverfahren strömt die Abluft über UV-C-Licht produzierende Spezialröhren (Fotozonlampen). Deren Strahlung spaltet die organischen Molekülketten auf und wandelt natürlichen Sauerstoff (O2) in aktiven Sauerstoff (O3) um, der sich mit den in der Abluft enthaltenen Geruchsverursachern verbindet: Organische und geruchstragende Substanzen werden oxidiert. Photokatalytische Abbauvorgänge auf der Oberfläche des nachgeschalteten Katalysators vernichten wirksam die restlichen Geruchsstoffe. Alle Rückstände sind vollständig biologisch abbaubar und werden mit dem Abluftstrom abtransportiert. oxytec garantiert eine Geruchsreduktion von 95% und einen Gesamt C-Gehalt unterhalb von 50 mg/cbm gemäß TA-Luft.
